nick_cai
发表于 2026-8-25 23:12
机所研究团队提出的这种基于虚拟边与双采样率像素化掩模图形的快速光学邻近效应修正技术，能够将不同类型的成像失真归结为两种类型的成像异常，即内缩异常与外扩异常。利用不同的成像异常检测模板，依次在掩模图形的边缘和拐角等轮廓偏移判断位置进行局部成像异常检测，确定异常类型及异常区域的范围。根据异常检测位置与异常区域范围，自适应产生虚拟边。通过移动虚拟边调整掩模的局部透过率分布，从而修正局部成像异常。借助修正策略和修正约束，实现高效的局部修正和全局轮廓保真度控制。另外，双采样率像素化掩模充分利用了成像系统的
天哥GG
发表于 2026-9-25 20:14
：上海光机所计算光刻技术研究取得
太菜
发表于 2026-9-25 23:12
学习一下
392125975
发表于 2026-10-13 22:26
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00450045
发表于 2026-10-14 16:57
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936247741
发表于 2026-10-15 08:59
谢谢分享
xgb8001
发表于 2026-10-21 08:21
内存涨价买不起了
xgb8001
发表于 2026-10-21 08:24
内存涨价买不起了
dongpassport
发表于 2026-11-2 10:14
感谢分享
25码高速行驶
发表于 2026-11-2 10:27
